Go to page

Bibliographic Metadata

  • Title
    Generierung von Defekten auf der Waferkante mittels Nanosekunden-Laserablation für die Analyse von Messsystemen
  • Author
    Heß, Felix
  • Examiner
    Lindner, Jörg ; Lischka, Klaus
  • Published
    2012
  • Institutional Note
    Paderborn, Univ., Diss., 2012
  • Annotation
    Tag der Verteidigung: 13.09.2012
  • Language
    German ; English
  • Document Types
    Dissertation (PhD)
  • URN
    urn:nbn:de:hbz:466:2-9797 
Links
Files
Classification
Zusammenfassung
  • Die vorliegende Arbeit befasst sich mit der Generierung von Defekten auf der Waferkante für die Analyse von Kanteninspektionsgeräten. Das Ziel war die Generierung von „standardisierten“ Defekten/Wafern, die eine Analyse/Bewertung von Kanteninspektionsgeräten ermöglicht. Im Vordergrund steht die Methode mittels Nanosekunden-Laserablation. Weitere Methoden und deren Bewertung sind am Ende der Arbeit aufgeführt.
Abstract
  • This work deals with the generation of defects on the wafer edge for the analysis of Wafer Edge Defect Detection Systems. The aim of this work was the creation of standardized defects/wafers allowing a detailed and reproducible analysis of Wafer Edge Defect Detection Systems. The main part of this dissertation focuses on the technique of ns-laser ablation. Alternative methods of defect generation on the wafer edge and their evaluation are discussed in later chapters of this work.
Content
Stats
  • The PDF-Document has been downloaded 29 times.
License/Rightsstatement